名称：PLD 脉冲激光沉积系统-SVT
型号：PLD-100/200　 　
产地：美国
简介：用于沉积金属薄膜，氧化物薄膜，多元素材料薄膜的脉冲激光沉积系统，可以与多种薄膜制备设备连用。凭借多年的科研与实践经验，我公司为许多科研用户独立打造了PLD-MBE连用系统，PLD-UHV Suptter连用系统等。
 
 
技术参数：
超高真空１０︿－１０Ｔｏｏｒ
四／六靶靶台 可公转,自传
温度加热台到1000C
灵活的泵组合 
线形运动挡板
在线检测系统(温度,厚度)
配备高能量激光器
主要特点：
RF射频等离子源(氧,氮)升级高真空 
增加进样室 
升级为Laser-MBE （L-MBE）系统 
自动软件控制
提供更洁净的薄膜生长环境,完美的温度控制解决方案.

仪器介绍

用于沉积金属薄膜，氧化物薄膜，多元素材料薄膜的脉冲激光沉积系统，可以与 
多种薄膜制备设备连用。凭借多年的科研与实践经验，我公司为许多科研用户独立 
打造了PLD-MBE连用系统，PLD-UHV Suptter连用系统等。 

应用：ZnO材料功能薄膜、STO薄膜金属薄膜、超导薄膜 铁电功能薄膜 
功能陶瓷膜